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イタリアBotonシリーズイオンスパッタリング
機器名称:全自動イオンスパッタリング装置型番:ETD-800原理:二極直流スパッタリング装置名称:イオンスパッタリング装置型番:ETD-900 M原理:マグネトロンスパッタリングにおけるマグネトロンスパッタリング
製品の詳細

機器名称:全自動イオンスパッタ型式:ETD-800

原理:二極直流スパッタリング

機器名称:イオンスパッタ型式:ETD-900 M

原理:マグネトロンスパッタリング

マグネトロンスパッタリングでは、運動電子が磁場中でLorentz力を受けるため、その運動軌跡は曲げられたり、生成されたりする

生螺旋運動は、その運動経路が長くなるため、作動ガス分子と衝突する回数が増加し、プラズマ密度を増加させ、それによってマグネトロンスパッタリング速度が大幅に向上し、さらに低いスパッタリング電圧と気圧で動作することができる。同時に、複数回の衝突を経てエネルギーを失った電子がアノードに到達したときには、基板を過熱させることなく低エネルギー電子になっている。

ETD-800パラメータ:

本体仕様:260 mm×307 mm×260 mm(W×D×H)

電源仕様:220 V/50 HZ

ターゲット(上部電極):50 mm×0.1 mm(D×H)

ターゲット:Au

真空試料室:ホウケイ酸ガラス115 mm×100 mm(D×H)

タイマー:zui長時間:3600 S

機械ポンプ:1 L/S

zui高電圧:-1200 DCV

ETD-900 Mパラメータ:

本体仕様:300 mm×360 mm×380 mm(W×D×H)

ターゲット(上部電極):50 mm×0.1 mm(D×H)

ターゲット:Au(標準)

試料室:ホウケイ酸ガラス160 mm×120 mm(D×H)

ターゲット寸法:φ50 mm

真空指示表: zui 高真空度: ≤ 4X10-2 mbar

イオン電流計:zui大電流:50 mA

タイマー:zui長時間:0-360 S

マイクロ真空バルブ:φ3 mmホース接続可能

通気可能ガス:複数

zui高電圧:-1600 DCV

機械ポンプ:標準配置2 L/S(国産VRD-8)

特徴と用途:


ETD-800用途:

電子顕微鏡実験室の走査電子顕微鏡(SEM)試料の調製に適している。

特徴:

微粒子のコーティングを達成するために、異なるターゲット(金、白金、銀など)を交換することによって行うことができる。

ワンタッチ操作で使いやすい。


ETD-900 M用途:

電子顕微鏡実験室の走査電子顕微鏡(SEM)サンプルの調製、非導体材料の実験電極の作製に適している。


特徴:

1、シンプル、経済的、信頼性があり、外観が美しい。

2、スパッタ電流と真空チャンバの圧力を調整して、めっき膜の速度と粒子の大きさを制御することができる。

3、SETPLASMA手動起動ボタンはあらかじめ圧力とスパッタ電流を設定して膜に不要な損傷を与えないようにすることができる。

4、真空保護は真空が低すぎて設備が短絡することを避けることができる。

5、同時に異なるターゲット(金、白金、イリジウム、銀、銅など)を交換することによって、より微粒子のコーティングを達成することができる。

6.より清浄なコーティングを達成するために、異なる不活性ガスを導入することによって。

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